Tato technologie patří mezi nejmodernější technologie navařování. Její podstatou je elektrický oblouk mezi wolframovou elektrodou a navařovaným materiálem při kterém vzniká z přiváděného inertního plynu argonu proud vysoce koncentrované plazmy o vysoké teplotě. Do tohoto proudu se přidává materiál ve formě prášku, který tvoří návar.
VÝHODY:
- díky koncentraci plazmy je oblast tavení poměrně úzká a tím se minimalizuje tepelné ovlivnění základního materiálu
- při navařování vzniká velice tenká přechodová vrstva mezi základním materiálem a vlastním návarem cca 1–2 mm
- ve spolupráci s polohovacím zařízením lze vytvářet velice rovnoměrné vrstvy návaru (tolerance výšky návaru 1 mm) a tím snižovat náklady za následné obrábění
NEVÝHODY:
- přídavný materiál ve formě prášku je nejdražší formou přídavného materiálu ve srovnání s elektrodou nebo drátem
- Přídavný materiál – prášek
- Plasmový plyn – argon
- Ochranný plyn – dusík
- Wolframová elektroda
- Návar
- Podklad
Pro plazmové navařování používáme zařízení Eutronick 200/400 firmy Castolin (www.eutectic.com) a zařízení DURWELD z firmy DURUM.